Динамика содержания фактора роста сосудистого эндотелия в ткани щитовидной железы после лазерного воздействия
20200319
250,00
р.
р.
Заказать
После лазерного воздействия на ткань щитовидной железы фактор роста сосудистого эндотелия (VEGF) может являться одним из основных регуляторов неоангиогенеза, сосудистой проницаемости и репарации. Целью исследования являлось изучение воздействия инфракрасного лазерного облучения (970нм) в дозах 112 Дж/см2 и 450 Дж/см2 на динамику содержания VEGF в ткани щитовидной железы в норме и при экспериментальном гипотиреозе. Эксперимент проведен на 80 лабораторных крысах самцах. Животные выводились из эксперимента через 1, 7, 30 суток после облучения. Содержание VEGF определялась имму- ногистохимическим методом. Показано, что лазерное воздействие в изучаемых дозах способствует повышению уровня VEGF в щитовидной железе интактных животных и животных с моделью гипотиреоза на сроках 1 и 7 суток Ключевые слова: VEGF, лазер, щитовидная железа, гипотиреоз