Динамика содержания фактора роста сосудистого эндотелия в ткани щитовидной железы после лазерного воздействия

После лазерного воздействия на ткань щитовидной железы фактор роста сосудистого эндотелия (VEGF) может являться одним
из основных регуляторов неоангиогенеза, сосудистой проницаемости и репарации. Целью исследования являлось изучение
воздействия инфракрасного лазерного облучения (970нм) в дозах 112 Дж/см2 и 450 Дж/см2 на динамику содержания VEGF в
ткани щитовидной железы в норме и при экспериментальном гипотиреозе. Эксперимент проведен на 80 лабораторных крысах
самцах. Животные выводились из эксперимента через 1, 7, 30 суток после облучения. Содержание VEGF определялась имму-
ногистохимическим методом. Показано, что лазерное воздействие в изучаемых дозах способствует повышению уровня VEGF в
щитовидной железе интактных животных и животных с моделью гипотиреоза на сроках 1 и 7 суток
Ключевые слова: VEGF, лазер, щитовидная железа, гипотиреоз